半導體製程部
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清華大學半導體研究學院製程部課程規劃 (實際開課學期仍需依各開課系所） |
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| 領域 (中英文) |
課程名稱 (中英文) | 授課 老師 |
課程科號 | 學 分 |
必/ |
開課 系所 |
課程 程度 |
111開課 學期 |
112開課 |
| 設計 Design | 半導體設計導讀 Introduction to Semiconductor Design |
劉靖家 | CSR 5301 | 2 | 必 | CSR | 研究所 | 上 | |
| 元件 Device | 半導體元件導讀 Introduction to Semiconductor Device |
白田理一郎 | CSR 5101 | 2 | 必 | CSR | 研究所 | 上 | |
| 材料 Material | 半導體材料導讀 Introduction to Semiconductor Material |
廖建能 | CSR 5201 | 2 | 必 | CSR | 研究所 | 上 | |
| 製程 Process | 製程整合 Process Integration |
張守仁 力晶積成電子 |
CSR 5402 | 3 | 必 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 先進半導體技術 Advanced Technologies of Semiconductor |
AMAT - Steve Wang | MS 5406 | 3 | 選 | 材料系 | 研究所 | 下 | ||
| 微影 | 半導體微影、RET、Immersion、EUV Semiconductor Lithography |
林本堅 | CSR 5403 | 3 | 選 | CSR | 研究所 | 上 | |
| 光學鄰近修正 Optical Proximity Correction |
高蔡勝 | CSR 5404 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | ||
| 微影/蝕刻製程與控制，微影和計量設備 Litho Process & Control, scanner, track, metrology |
ASML TEL 台積電 |
CSR 5405 | 3 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | ||
| 微影光罩 Lithography Mask |
高蔡勝 | CSR 6401 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 112-1 | ||
| 極紫外光微影原理 Principles of Extreme-Ultraviolet Lithography |
嚴濤南 ASML |
CSR 5406 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | ||
| 薄膜製程 | 微波工程(Eng) Microwave Engineering |
柳克強 | ESS 5271 | 3 | 選 | 工科系 | 研究所 | 下 | |
| 離子體物理(Eng) Plasma Physics |
張存續 | PHYS 5350 | 3 | 選 | 物理系 | 研究所 | 下 | ||
| 材料化學分析技術 Analytical techniques for Materials Chemistry |
楊家銘 | CHEM 5430 | 3 | 選 | 化學系 | 研究所 | 上 | 112-1 | |
| 封裝技術 與模擬 |
電子封裝力學概論(Eng) Fundamental Mechanics of Electronic Packaging |
江國寧 | PME 6343 | 3 | 選 | 動機系 | 研究所 | 下 | |
| 奈米世代封裝技術 Packaging for Nanoelectronics |
余振華 TSMC |
CSR 5407 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | ||