領域
(中英文) |
課程名稱 (中英文) |
授課
老師 |
課程科號 |
學
分 |
必/
選 |
開課
系所 |
課程
程度 |
開課
學期 |
| 設計 Design |
半導體設計導讀
Introduction to Semiconductor Design |
劉靖家 |
CSR 5301 |
2 |
必 |
CSR |
研究所 |
上 |
| 元件 Device |
半導體元件導讀
Introduction to Semiconductor Device |
白田理一郎 |
CSR 5101 |
2 |
必 |
CSR |
研究所 |
上 |
| 材料 Material |
半導體材料導讀
Introduction to Semiconductor Material |
廖建能 |
CSR 5201 |
2 |
必 |
CSR |
研究所 |
上 |
模組製程技術
Module Process Technology |
製程整合
Process Integration |
張守仁
力晶積成電子 |
CSR 5402 |
2 |
必 |
CSR |
研究所 |
下 |
先進半導體製程量測
Introduction of Metrology for Advanced Semiconductor Process Control |
趙強
科磊 |
CSR 5408 |
3 |
選 |
CSR |
研究所 |
下 |
先進半導體技術
Advanced Technologies for Semiconductor and Display |
王寶琪
AMAT |
MS 5406 |
3 |
選 |
材料系 |
研究所 |
下 |
微波工程(Eng)
Microwave Engineering |
柳克強 |
ESS 5271 |
3 |
選 |
工科系 |
研究所 |
下 |
離子體物理(Eng)
Plasma Physics |
張存續 |
PHYS 5350 |
3 |
選 |
物理系 |
研究所 |
|
薄膜工程導論
Introduction to thin film engineering |
黃嘉宏 |
CSR 5409 |
3 |
選 |
CSR |
研究所 |
|
微影
Lithography |
光學鄰近修正
Optical Proximity Correction |
高蔡勝 |
CSR 5404 |
2 |
選 |
CSR |
研究所 |
下 |
微影、蝕刻、鍍膜、清洗、製程設備與控制
Litho Process & Control, scanner,
track, metrology, Deposition, Etching, Cleaning |
Peter Loewenhardt
TEL
陳俊光
ASML |
CSR 5405 |
3 |
選 |
CSR |
研究所 |
下 |
微影光罩
Lithography Mask |
高蔡勝 |
CSR 6401 |
2 |
選 |
CSR |
研究所 |
|
極紫外光微影原理
Principles of Extreme-Ultraviolet Lithography |
嚴濤南
ASML |
CSR 5406 |
2 |
選 |
CSR |
研究所 |
下 |
封裝技術與模擬
Pakage Technology and Simulation |
電子封裝力學概論(Eng)
Fundamental Mechanics of
Electronic Packaging |
江國寧 |
PME 6343 |
3 |
選 |
動機系 |
研究所 |
下 |
奈米世代封裝技術
Packaging for Nanoelectronics |
余振華
TSMC |
CSR 5407 |
2 |
選 |
CSR |
研究所 |
下 |
