電子束直寫微影機台 E-Beam Lithograhy System(ELS7500-EX)

◼️ 儀器廠牌及型號： ELIONIX ELS7500-EX

◼️ 儀器位置： 清華平方科技園區工程一館

◼️ 預約平台： 晶片驅動 - 全台半導體資源共享平台

https://scrs.tsri.org.tw/#

◼️ 日本 ELIONIX 公司生產的 ELS-7500EX 電子束直寫系統，採用Gaussian beam 與單片式設計。利用電子束直寫把設計電路圖檔轉印出圖形在試片基板上。其電子束光斑可小至 3 nm，具備製作 線寬低於 50 nm 圖案的強大潛力。然而，由於單片式 Gaussian beam 設計在大面積製程上效率有限，因此主要應用於研究與開發用途。

◼️ 重要規格:
電壓:50 keV。
電流:10pA ~ 600pA。
最小Pitch:50nm @ 正光阻厚度 50nm
基板尺寸:2 吋~6 吋 完整晶圓或方形基板(破片需大於10x10 mm2 但不能大於 30x30 mm2 ) 。

※注意事項:
基板必須可以導電。不導電基板必須增加一層導電層。送件時請註明。

◼️ 機台基本規格:

◼️ 服務項目及收費標準

※註: 1.光阻塗佈、顯影另外計費: 1000元/次
  2.每次最少預約2小時