製程部
| 核心必修 | 專業必修 | 專業選修 | 共同必修 | 實習 | 總學分數 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 碩士班 | CSR 5101 半導體元件導讀 CSR 5301 半導體設計導讀 CSR 5201 半導體材料導讀 |
CSR 5402 製程整合 CSR 5403 半導體微影、RET、Immersion、EUV |
至少選3門 | CSR 5001 書報討論(二學期共2學分) CSR 6000 論文研究(二學期共0學分) CSR 5002 領導統御(3學分) |
業界實習
or 課程(3學分) |
29學分 |
| 博士班 | 選3門 | CSR 7002 專題討論(2學分) CSR 8000 論文研究(二學期共0學分) CSR 7003 企業領導(3學分) |
23學分 | |||
| 逕博 | CSR 5402 製程整合 |
選6門 | 35學分 |
課程資訊表:
| 領域(中英文) | 課程名稱(中英文) | 授課老師 | 課程科號 | 學分 | 必/選修 | 開課系所 | 課程屬性 | 開課學期 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 元件 Device | 半導體元件導讀(Eng) Introduction to Semiconductor Device |
白田理一郎 | CSR 5101 | 2 | 核心必修 | CSR | 研究所 | 上 |
| 設計 Design | 半導體設計導讀(Eng) Introduction to Semiconductor Design |
劉靖家、謝志成、 黃稚存、黃朝宗 |
CSR 5301 | 2 | 核心必修 | CSR | 研究所 | 上 |
| 材料 Material | 半導體材料導讀(Eng) Introduction to Semiconductor Material |
廖建能 | CSR 5201 | 2 | 核心必修 | CSR | 研究所 | 上 |
| 模組製程技術 Module Process Technology |
製程整合 Process Integration |
張守仁 (PSMC) |
CSR 5402 | 2 | 必 | CSR | 研究所 | 下 |
| 先進半導體製程測量 Introduction of Metrology for Advanced Semiconductor Process Control |
趙強 (KLA) |
CSR 5408 | 3 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 化學機械研磨製程 Chemical Mechanic Polish Process |
黃健朝 | CSR 5410 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 先進半導體技術 Advanced Technologies for Semiconductor and Display |
王寶琪(AMAT) | MS 5406 | 3 | 選 | 材料系 | 研究所 | 下 | |
| 微波工程(Eng) Microwave Engineering |
柳克強 | ESS 5271 | 3 | 選 | 工科系 | 研究所 | 下 | |
| 離子體物理 Plasma Physics |
張存續 | PHYS 5350 | 3 | 選 | 物理系 | 研究所 | 下 | |
| 薄膜工程導論 Introduction to thin film engineering |
黃嘉宏 | ESS 4520 | 3 | 選 | 工科系 | 研究所 | 上 | |
| 材料化學分析技術 (Eng) Analytical techniques for Materials Chemistry |
楊家銘 | CHEM 5430 | 3 | 選 | 化學系 | 研究所 | 上 | |
| 半導體晶圓清洗製程及不良粒子控制技術 Semiconductor cleaning process and defect reduction technology |
TBD | CSR 5411 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | TBD | |
| 半導體蝕刻技術 | 沈昌宏(聘任中) | TBD | TBD | 選 | CSR | 研究所 | TBD | |
| 半導體製程技術 | 沈昌宏(聘任中) | TBD | TBD | 選 | CSR | 研究所 | TBD | |
| 半導體量測及製程監控 | 李宏仁(聘任中) | TBD | TBD | 選 | CSR | 研究所 | TBD | |
| 半導體化學材料應用及檢測 Semiconductor chemical material application and characterization |
李宏仁(聘任中) | TBD | TBD | 選 | CSR | 研究所 | TBD | |
| 微影 Lithography |
半導體微影、RET、Immersion、EUV(Eng) Semiconductor Lithography |
林本堅 | CSR 5403 | 3 | 必/選 | CSR | 研究所 | 上 |
| 光學鄰近修正 Optical Proximity Correction |
高蔡勝 | CSR 5404 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 微影、蝕刻、鍍膜、清洗、製程設備與控制 Litho Process & Control, scanner, track, metrology, Deposition, Etching, Cleaning |
洛彼得(TEL)、 陳俊光 (ASML) |
CSR 5405 | 3 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 微影光罩 Lithography Mask |
高蔡勝 | CSR 6401 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 上 | |
| 極紫外光微影原理(Eng) Principles of Extreme-Ultraviolet Lithography |
嚴濤南(ASML) | CSR 5406 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 | |
| 封裝技術與模擬 Package Technology and Simulation |
電子封裝力學概論(Eng) Fundamental Mechanics of Electronic Packaging |
江國寧 | PME 6343 | 3 | 選 | 動機系 | 研究所 | 下 |
| 奈米世代封裝技術 Packaging for Nanoelectronics |
余振華(TSMC)/余國寵(TSMC) | CSR 5407 | 2 | 選 | CSR | 研究所 | 下 |